Progress in Materials Science 48 (2003) 57–170
Chemical Vapour Deposition (CVD) of films and coatings involve the chemical reactions of gaseous reactants on or near the vicinity of a heated substrate surface. This atomistic deposition method can provide highly pure materials with structural control at atomic or nanometer scale level. Moreover, it can produce single layer,...
Weinheim, Germany: Wiley-VCH Verlag GmbH & Co., 2015. — 484 p. — ISBN: 3527337997. The method of CVD (chemical vapor deposition) is a versatile technique to fabricate high-quality thin films and structured surfaces in the nanometer regime from the vapor phase. Already widely used for the deposition of inorganic materials in the semiconductor industry, CVD has become the method...
Weinheim; New York; Cambridge; Tokyo: VCH, 1994. — 562 p. — ISBN: 3-527-29071-0. High purity, thin metal coatings have a variety of important commercial applications, for example, in the microelectronics industry, as catalysts, as protective and decorative coatings as well as in gas-diffusion barriers. This book offers detailed, up- to-date coverage of the chemistry behind the...
Materials Park, OH: ASM International, 2001. — vii, 481 p. — (Surface Engineering Series, v. 2). This handbook provides guidelines and practical information on the chemical vapor deposition (CVD) process for surface engineering design, product development, and manufacturing. The first of the 14 chapters discuss the basic principles of CVD thermodynamics and kinetics, stresses...
Tallinn: Scientific Route OÜ, 2021. — 184 p. Transport engineering is one of the areas in which coatings for various functional purposes are widely used. Among the many methods used for coating, the group of vacuum-plasma methods occupies one of the leading directions in the field of obtaining coatings with unique characteristics that make it possible to significantly increase...
Oxford: Elsevier Science, 1983. — 152 p. — ISBN: 978-0-12-674780-5, 0-12-674780-6, 9780323139151, 0323139159. Vacuum technology is advancing and expanding so rapidly that a major difficulty for most companies in the field is finding qualified technicians needed for expansion and as replacements. The only recourse for most companies is to hire capable, though untrained, people...
Харьков: ННЦ ХФТИ, 2010. – 318 с.
Рассмотрены физические процессы, происходящие на электродах и в межэлектродном пространстве вакуумно-дугового разряда. Описаны основные подходы к конструированию вакуумно-дуговых испарителей и некоторые их схемы. Приведены характеристики износостойких вакуумно-дуговых покрытий, в том числе сверхтвердых наноструктурных, и результаты их...
Харьков: ННЦ ХФТИ, 2005. — 236 с. 300 dpi, ч/б, постранично, распознано Рассмотрены физические процессы, происходящие на электродах и в межэлектродном пространстве вакуумно-дугового разряда, в том числе новая физическая модель катодного пятна, его поведение в магнитных полях и взаимодействие с поверхностью катода. Описаны основные принципы конструирования вакуумно-дуговых...
Підручник. — Харків: Національний аерокосмічний університет ім. М. Є. Жуковського «Харківський авіаційний інститут», 2018. — 288 с.: іл. Розглянуто фізичні процеси, що відбуваються при отриманні вакуумно-дугових покриттів на електродах, у міжелектродному просторі вакуумно-дугового розряду і на оброблюваній поверхні. Описано принципи роботи вакуумно-дугових випарників і основні...
Москва: Государственная публичная научно-техническая библиотека, 1968. — 56 с. За последние годы процесс металлизации в вакууме с целью защиты материалов от коррозий находит все большее распространение в промышленности. Настоящий библиографический указатель имеет целью ознакомить инженерно-технических работников с достижениями в этой области. Он включает наиболее интересные...
М.: Заочный институт ЦП ВНТО приборостроителей им. С.И. Вавилова, 1988. — 68 с.
В пособии рассмотрены основные типы тонкослойных оптических покрытий, наносимых в вакууме. Приведены ряд особенносей испарения оксидов металлов при их электронно-лучевом испарении в вакууме. Методами пассивного и активного моделирования процессов нанесения, построены математические модели слоёв с...
Л.: ЛДНТП, 1983. — 28 с. В брошюре рассматривается состояние работ в области автоматизированного нанесения тонкослойных интерференционных покрытий в вакууме на установке с управлением от микрокомпьютера. Приводится алгоритм работы установки и примеры реализации некоторых конструкций покрытий. Даётся математическая модель процесса нанесения слоя оксида титана, полученная на...
Учебное пособие. — СПб.: СПбГТУ, 1996. — 44 с. Для студентов конструкторских специальностей 5-го курса механико-машиностроительного факультета, изучающих курсы "Вакуумная техника", "Оборудование для производства электровакуумных приборов", "Оборудование для производства полупроводниковых приборов". Пособие может быть использовано для выполнения лабораторных работ и курсового...
Учебное пособие. — Казань: КГТУ, 2006. — 183 с. Написано в соответствии с действующей программой дисциплины СД.01 «Вакуумные технологии, Ч.2.» специализации 150801-02 «Вакуумные машины и установки». Издание посвящено особенностям технологии нанесения покрытий в вакууме на листовое стекло, применяемое в строительстве (архитектурное стекло), и технологическому оборудованию,...
М.: Энергия, 1967. — 312 с.: илл. В книге рассматриваются способы получения и обработки, а также методы измерения скорости напыления и толщины тонкопленочных слоев и основные области применения тонких пленок. Излагаются требования к вакууму и составу остаточной среды при термическом испарении и катодном распылении и описываются современные средства получения и измерения вакуума, а...
Под общ. ред. проф. Р.А. Нилендера. — М.: Энергия, 1967. — 312 с.: ил. В книге рассматриваются способы получения и обработки, а также методы измерения скорости напыления и толщины тонкопленочных слоев и основные области применения тонких пленок. Излагаются требования к вакууму и составу остаточной среды при термическом испарении и катодном распылении и описываются современные...
Препринт НИИЭФА П-0998, СПб.: ФГУП НИИЭФА им. Д.В. Ефремова, 2009, 55 с.
Приведены краткий обзор современного состояния проблемы, методика расчёта и описание конструкции модульного 30/60/90 электромагнитного фильтра для вакуумно-дуговых источников плазмы, а также экспериментальные результаты исследования параметров системы источник – фильтр. Включены также некоторые результаты...
М.: Машиностроение, 1987. — 208 с.: ил. Изложены теоретические основы способов получения покрытий из сплавов в вакууме, приведены основы технологии нанесения различных покрытий из сплавов на металлы и неметаллы. Обобщены данные исследований влияния условий осаждения покрытий на их пористость и защитные свойства, а также электрохимического поведения покрытий в агрессивных средах....
М.: Машиностроение, 1978. — 60 с.
Кратко рассмотрены вакуумные технологические методы получения тонких пленок, которые находят все большее применение в различных областях науки и техники, а также некоторые прикладные вопросы вакуумной техники. Приведены классификация и технические данные. Описаны наиболее типичные испарительно-распылительные системы и установки для нанесения...
М.: Высшая школа, 1989. — 110 с. Рассмотрены вопросы: нанесение пленок методами термического испарения, ионно-плазменного распыления; контроль параметров пленок и технологических режимов их нанесения; оборудование для нанесения пленок; электровакуумная гигиена и техника безопасности.
М.: Металлургия, 1992. — 112 с. Изложены физические процессы и техника создания атомарных потоков вещества при вакуумном напылении. Рассмотрены взаимодействие потоков пара с поверхностью твердых тел, зарождение и рост покрытий. Показано влияние основных технологических параметров на их структуру и свойства. Описано получение покрытий различного функционального назначения....
Харьков: ННЦ ХФТИ, 2006. — 361 с.
Систематизированы процессы, происходящие при вакуумно-диффузионной обработке металлических поверхностей в тлеющем разряде, на основе анализа известных моделей их и общих положений физики электрического разряда в газе предложена энергетическая модель формирования модифицированного слоя.
Изложены некоторые методики исследований, в том числе –...
Статья. — Вестник Нижегородского университета им. Н. И. Лобачевского. Физика твердого тела. — 2007. — №1. — С.52–56. Плазменно-иммерсионная ионная имплантация и осаждение металлов (MePIIID) является эффективным методом улучшения поверхностных свойств различных материалов. Были исследованы структура, фазовый состав и поверхностные свойства (смачиваемость, поверхностная энергия)...
Навчальний посібник. Вінниця: ВНТУ, 2007. - 96 с.
В навчальному посібнику розглянуті фундаментальні основи технологічних процесів вакуумно-конденсаційного напилювання покрить. Посібник розроблений у відповідності з планом кафедри та програмам дисциплін Розпилюючі пристрої та устаткування та Технологія та обладнання для напилення
Комментарии